光刻胶的应用领域包括集成电路（IC）、半导体分立器件、液晶显示器（LCD）及触摸平板、先进封装、发光二极管（LED）、MEMS 等的细微图形加工。按照产品的功能，本司的光刻相关材料产品分为非感光光刻胶、感光光刻胶、聚酰亚胺、清洗液和稀释剂等。

前驱体是半导体薄膜沉积工艺的主要原材料，广泛应用于半导体生产制造工艺，携有目标元素，呈气态或易挥发液态，具备化学热稳定性，同时具备相应的反应活性或物理性能的一类物质。本公司的前驱体产品可以用于前后端物理沉积PVD、化学气相沉积CVD及原子气相沉积ALD，以形成符合半导体制造要求的各类薄膜层。

半导体化学品是为生产半导体元件配套的精细化工材料，具有品种多、质量高 、用量小、纯度要求苛刻等特点，其成本只占到终端产品成本的10%-20%左右 ，但其品质对电子产品的性能影响巨大。

半导体制造过程中的特种气体主要有各种掺杂用气体、外延用气体、离子注入用气体、刻蚀用气体以及其他广为各种制程设备所使用的惰性气体等。